Fabricanții chinezi de microcipuri au solicitat guvernului să creeze o analiză internă a ASML.

Liderii chinezi din industria semiconductorilor solicită coordonare națională pentru dezvoltarea litografiei EUV (2026–2030)

În articolul publicat în cadrul unei ediții speciale, conducătorii de rang înalt ai celor mai mari companii chineze din domeniul microproducției au prezentat un plan comun. Scopul este să sincronizeze eforturile de dezvoltare a sistemelor litografice și astfel să crească independența tehnologică a țării.

Cine a vorbit
Rezumat al apelului
Zhao Jingzhun (Naura Technology Group) a cerut unificarea resurselor naționale pentru integrarea inovațiilor obținute în diferite institute.
Chen Nansyan (Yangtze Memory Technologies Corp.) a considerat necesar să se creeze o „ASML chineză” pentru a depăși barierele aprovizionării externe și a crește autosuficiența.
Liu Weiping (Empyrean Technology) a subliniat importanța distribuției fondurilor și a resurselor umane pentru crearea unei companii integrate.
Reprezentanți ai principalilor institute din industria semiconductorilor au identificat punctele slabe cheie: software de automatizare a proiectării, materiale pentru plăci de siliciu și tehnologii gazoase.

De ce este important acum
* Restricțiile de export ale SUA (din 2020) limitează accesul Chinei la tehnologiile sub 7 nm, făcând litografia EUV critică.

* ASML este singurul furnizor mondial de mașini pentru litografia EUV. Echipamentul constă din 100.000 de componente de la 5.000 de furnizori; ASML le asamblează doar pe ele.

* Progrese interne: China a realizat progrese semnificative în domenii precum laserul EUV, fabricarea plăcilor de siliciu și sistemele optice, dar integrarea acestor tehnologii rămâne o provocare complexă.

Direcții cheie de lucru
1. Crearea unei platforme unificate pentru cercetare și dezvoltare a dispozitivelor și componentelor avansate.

2. Dezvoltarea software-ului pentru automatizarea proiectării electronicii.

3. Consolidarea științei materialelor: producția de plăci de siliciu de înaltă calitate și gaze necesare pentru litografia EUV.

4. Stabilirea coordonării naționale în cadrul planului pe cinci ani (15‑a perioadă).

Evaluarea situației curente
* China ocupă aproximativ 33% din piața mondială de microproducție la procese mature (28 nm și peste).

* În aceste segmente, țara are un potențial semnificativ atât în proiectare, cât și în producție.

În concluzie experții solicită guvernului să dezvolte urgent planuri pentru integrarea tuturor componentelor cheie ale litografiei EUV. Aceasta va permite crearea propriei „ASML” și asigurarea independenței Chinei în tehnologiile critice de microproducție.